高靈敏度: 采用高NA,低像差的高性能成像系統
工藝適應性:寬光譜光源且可加偏振,對FinFET制程具有良好的工藝適應性
極佳CoO:超精高速運動平臺配合高性能量測算法
用戶友好:自動量測模式選擇,自動處方生成,節約處方生成時間
工廠自動化:支持SECS/GEM SEMI標準,全面滿足工廠自動化需求

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